高純水設備一般采取EDI工藝加上反滲透的原理制取超純水,所制超純水用于微電子工業,半導體工高純水設備,作為制取超純水的設備,作為反滲透設備后的二次除鹽設備,可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業,半導體工業,發電工業,制藥行業和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐的補給水,以及業,發電工業,制藥行業和實驗室。高純水設備的EDI工藝系統選用通過一次反滲透除鹽后的水作為進水,再通過EDI模塊內離子交換樹脂進行二次除鹽,這樣可以使純水制作進程接連化,它代替了傳統DI混合樹脂床制作去離子水的辦法,防止運用酸堿再生;大量削減酸堿本錢投入的一起也可以有用防止環境污染。經活性碳過濾后的水再進入R.O反滲透過裝置。采用離子交換方式,其流程如下: